2025.11.18表面処理メディア掲載

当社は、次世代パワー半導体技術の実用化と普及を目指す「びわこ半導体構想」に参画しました

奥野製薬工業株式会社（代表取締役社長：奥野 直希　以下、当社）は、次世代パワー半導体技術の実用化と普及を目指す「びわこ半導体構想」に参画したことをお知らせします。
本構想は、”びわこが新しい半導体の源を創出する”というビジョンのもと、参画する企業や研究機関が密接に連携し、省エネルギー化に大きく貢献する技術革新を創出することを目的としています。
当社は、Patentix株式会社（本社：滋賀県草津市、代表取締役社長：衣斐 豊祐　以下、Patentix）とともに、本構想の中核メンバーとして活躍してまいります。

【構想の背景と目的】

世界的に持続可能な未来への関心が高まる中、エネルギー効率の向上が喫緊の課題となっています。
この課題解決の鍵となるのが、次世代パワーデバイスに必要とされる超ワイドギャップ（UWBG）半導体材料「二酸化ゲルマニウム（GeO₂）」です。
「びわこ半導体構想」は、この世界最先端のパワー半導体材料GeO₂の社会実装を加速させるため、主に3つの実現を目指します。

1. GeO₂ウエハーのサプライチェーンの構築
2. GeO₂パワー半導体に実用化・普及
3. GeO₂パワー半導体搭載製品の共同開発

【参画の主なメリット】

• 情報収集：世界最先端のパワー半導体材料「GeO₂」の研究成果や、パワー半導体に関する最新情報にいち早く触れることができます。
• ネットワーキング（共同研究含む）：本構想に参画する多様な企業・研究機構と交流できます。これにより、互いの技術力を向上させ、共同研究や新たなビジネスチャンスを得ることが可能となります。
• 研究開発：世界最先端パワー半導体である「GeO₂」の研究開発に先行的に関与することが可能となります。

【当社の役割】

当社は、長年培ってきた表面処理薬品およびプロセスの研究開発を核として、Patentixをはじめとする参画パートナーの皆様と協力に連携し、ミストCVD装置用Ge溶液の製造販売、ならびにミストCVD装置を用いた半導体後工程向け表面処理プロセスの構築、 試験評価用卓上ミストCVD装置の開発を通じて持続可能な未来の成長に貢献してまいります。