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  • ICPニコロンFPF-TM

    • 耐折性に優れる。
      析出速度12μm/h (リン含有率7〜11wt%)。
      置換金めっき剥離後の黒化、腐食が発生しにくい。
      ファインパターン性に優れる。
      はんだ濡れ性、はんだ接合強度が良好である。
      緻密で均一な半光沢外観の皮膜が得られる。
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンLPW-LFN

    • 硫黄化合物をおよび鉛化合物を使用していない。
      (硫酸および硫酸塩は除く)
      析出皮膜のリン含有率は約3〜4wt%、皮膜密度:8.5g/cm3
      ファインパターン性に優れる。
      析出皮膜が不動態化しにくく、経時によるはんだ濡れ性の低下が少ない。
      はんだのニッケルへの拡散が少ない。
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンGM-EC

    • 析出速度 12μm/h リン含有率 7~11wt%。
      置換金めっき剥離後の黒化、腐食が発生しにくい。
      ファインパターン性が良好。
      はんだ濡れ性、はんだ接合強度に優れる。
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンSOF(NP)

    • 独立回路基板用の鉛フリー無電解ニッケルめっき液。
      高リンタイプで、亜硫酸ガスなどに対する耐食性に優れる。
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンSOF

    • 独立回路基板用の無電解ニッケルめっき液。
      高リンタイプで、亜硫酸ガスなどに対して高い耐食性が得られる。
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンHFP

    • 耐食性に優れ、ファインパターン性も良好な無電解Ni-Pめっき液。
      (P含有率:11wt%)
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンGME(NP)

    • セラミック基板用の鉛フリータイプ無電解Ni-Pめっき液。
      (P含有率:7wt%)
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンGM-SE

    • 耐食性、はんだ接合性が良好な無電解Ni-Pめっき液。
      (P含有率:9wt%)
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板
  • ICPニコロンFPF

    • 耐折性に優れ、FPC基板に最適な無電解Ni-Pめっき液。
      (P含有率:7wt%)
    • 無電解ニッケル-リン/金めっきプロセス薬品

      無電解ニッケルめっき液
    • プリント配線板